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產(chǎn)品列表隱藏

發(fā)布時(shí)間：2024-01-12 16:03:24

 

產(chǎn)品中心

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PRODUCTS

 

 

 

全部分類(lèi)
01021 (12)

碳化硅襯底用拋光液系列（COPOL系列）

產(chǎn)品性能：
? 少劃傷，采用氧化鋁和混合磨料兩種體系，可定制酸性或堿性液
? 去除速率高，拋光缺陷少，良品率高
? 存儲(chǔ)周期長(zhǎng)，采用AB體系穩(wěn)定性好
產(chǎn)品分類(lèi)：
? 氧化鋁拋光液
? 氧化硅拋光液
? 氧化錳拋光液
01021 (12)
產(chǎn)品描述

COPOL-130

COPOL-133

COPOL-134

• 在Si面具有較好的去除率表現(xiàn)
• 拋光后表面缺陷較少，Si面粗糙度≤0.06nm
• 使用時(shí)將A液與B液混合，加入定量的雙氧水，循環(huán)使用

• 采用納米級(jí)氧化硅磨料，拋光后表面無(wú)劃傷，良品率高
• 出色的Si面拋光速率，是一般氧化硅拋光液的3倍以上

• 采用較軟的氧化硅作為磨料
• 表面質(zhì)量較好
• pH值為10左右，對(duì)設(shè)備腐蝕較小

COPOL-233

COPOL-235

COPOL-236

• 具有良好的去除率表現(xiàn)
• 拋光后表面無(wú)劃傷，良品率高
• 可循環(huán)使用，產(chǎn)品使用壽命長(zhǎng)

• 采用150nm級(jí)氧化鋁磨料，酸性氧化鋁拋光液
• 具有較高的拋光速率
• 拋光后表面無(wú)劃傷，良品率高
• 產(chǎn)品對(duì)拋光墊的腐蝕損耗較小

• 采用150nm級(jí)氧化鋁磨料，堿性氧化鋁拋光液
• 拋光后表面無(wú)劃傷，良品率高
• 拋光速率高且穩(wěn)定，循環(huán)使用壽命長(zhǎng)
• 產(chǎn)品對(duì)拋光墊的腐蝕損耗較小

COPOL-431

COPOL-432

更多產(chǎn)品請(qǐng)聯(lián)系我們

• 具有較高的拋光速率
• 拋光后粗糙度較低，Si面 Ra≤0.08nm
• 拋光后表面無(wú)劃傷，良品率高
• 建議使用前pH調(diào)至2

• 具有較高的拋光速率
• 拋光后粗糙度較低，Si面 Ra≤0.08nm
• 拋光后表面無(wú)劃傷，良品率高
• 建議使用前pH調(diào)至2

 

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