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發(fā)布時(shí)間：2024-01-12 16:03:24

 

解決方案

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SOLUTION

 

 

 

碳化硅襯底不同拋光機(jī)耗材解決方案

概要:
概要:
詳情

拋光機(jī)類型

拋光液

拋光墊

應(yīng)用特點(diǎn)

單片機(jī)

COPOL-431

PUN-50D

表面粗糙度低，高去除速率，滿足一步拋光要求

COPOL-432

高去除速率，去除速率穩(wěn)定，表面粗糙度低，滿足一步拋光要求

多片機(jī)

粗拋

COPOL-233（堿性）

NWS-85

表面無劃傷，良品率高

COPOL-234（酸性）

去除速率高，表面無劃傷，良品率高

COPOL-235（酸性）

拋光速率高且穩(wěn)定，循環(huán)使用壽命長

COPOL-236（堿性）

COPOL-133（酸性）

出色的Si面拋光速率，是一般氧化硅拋光液的3倍以上。拋光后表面無劃傷，良品率高

COPOL-134（堿性）

精拋

COPOL-136

DPN-50W

去除速率快 ，拋光后表面缺陷較少，Si面粗糙度≤0.06nm

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